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2010 [2021/12/20 23:56] – 作成 admin2010 [2024/03/05 22:12] (現在) admin
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-K. Iiyama, H. Takamatsu and T. Maruyama, "Hole-injection-type and electron-injection-type silicon avalanche photodiodes fabricated by standard 0.18 μm CMOS process," IEEE Photon. Technol. Lett., vol. 22, no. 12, pp. 932-934, Jun. 2010.+**Journal Papers** 
 +  - K. Iiyama, H. Takamatsu and T. Maruyama,\\ "Hole-injection-type and electron-injection-type silicon avalanche photodiodes fabricated by standard 0.18 μm CMOS process,"\\ IEEE Photon. Technol. Lett., vol. 22, no. 12, pp. 932-934, Jun. 2010. 
 + 
 + 
 +**International Conferences** 
 +  - M. Inamoto, T. Maruyama, and K. Iiyama,\\ "Analysis of SOI-Based Optical Waveguide Switch with MEMS Evanescent Coupler,"\\ 7th International Conference on Optics-photonics Design & Fabrication (ODF 2010), 20PSa-71, Yokohama (Japan), Apr. 2010. 
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 +**Domestic Conferences** 
 +**Local Meetings** 
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 +**Others** 
 +1. 稲本慎, 丸山武男, 飯山宏一, 「MEMSを用いた方向性結合器型光スイッチング素子の有限要素法解析」, 電子情報通信学会 レーザ・量子エレクトロニクス研究会, 福井, 2010年5月発表予定. 
 +2. 飛鳥井貴弘, 稲本慎, 丸山武男, 飯山宏一, 大平圭介, 松村英樹, 「波長0.8 m帯におけるアモルファスシリコン光導波路の伝搬損失」, 第57回 応用物理学関係連合講演会, 17p-P3-8, 平塚, 2010年3月. 
 +3. 高松英輝, 丸山武男, 飯山宏一, 「0.18m CMOSプロセスによるSi APDの高速化の検討」, 第57回 応用物理学関係連合講演会, 20a-E-6, 平塚, 2010年3月. 
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2010.1640012176.txt.gz · 最終更新: by admin

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