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+[[Achievements|研究業績]]
 **Journal Papers**
+  - T. Okumura, T. Maruyama, H. Yonezawa, N. Nishiyama and S. Arai,\\ "Injection-type GaInAsP-InP-Si distributed-feedback laser directly bonded on silicon-on-insulator substrate,"\\ IEEE Photon. Technol. Lett., vol. 21, no. 5, pp. 283-285, Mar. 2009.
+  - K. Inoue, D. Plumwongrot, N. Nishiyama, S. Sakamoto, H. Enomoto, S. Tamura, T. Maruyama and S. Arai,\\ "Loss reduction of Si wire waveguide fabricated by edge-enhancement writing for electron beam lithography and reactive ion etching using double layered resist mask with C60,"\\ Jpn. J. Appl. Phys. vol. 48, no. 3, pp. 030208(3pages), Mar. 2009.
+  - M. Inamoto, T. Maruyama and K. Iiyama,\\ "Mach-Zehnder interferometric optical switch with MEMS phase shifter, "\\ Opt. Quantum Electron., vol. 41, no. 8, pp. 599-604, Jun. 2009.
+  - S. Arai and T. Maruyama,\\ "GaInAsP/InP quantum wire lasers,"\\ J. Sel. Top. Quantum Electron. vol. 15, no. 3, pp. 731-742, May/Jun. 2009.
+  - T. Okumura, M. Kurokawa, M. Shirao, D. Kondo, H. Ito, N. Nishiyama, T. Maruyama and S. Arai,\\ "Lateral current injection GaInAsP/InP laser on semi-insulating substrate for membrane-based photonic circuits,"\\ Opt. Express, vol. 17, no. 15, pp. 12564-12570, Jul. 2009.
 **International Conferences**
+  - M. Inamoto, T. Maruyama, and K. Iiyama,\\ "Mach-Zehnder Interferometric Optical Switch using MEMS Phase Shifter,"\\ the 10th International Conference on Numerical Simulation of Optoelectronic Devices (NUSOD 2009), MP9, Gwangju (Korea), Sep. 2009.
+  - K. Iiyama, H. Takamatsu, and T. Maruyama,\\ "Silicon Lateral Avalanche Photodiodes Fabricated by Standard 0.18 $\mu$m CMOS Process,"\\ the 35th European Confernce on Optical Communication (ECOC 2009), P2.06, Vienna (Austria), Sep. 2009.
+  - K. Iiyama, Y. Ono, T. Maruyama, and T. Yamagishi,\\ "Amorphous Polyethylene Terephthalate Optical Channel Waveguide,"\\ the 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2009), P-7-7, Sendai (Japan), Oct. 2009.
+  - K. Iiyama, H. Takamatsu, and T. Maruyama,\\ "Silicon Lateral Avalanche Photodiodes Fabricated by Standard 0.18 $\mu$m Complementally Metal-Oxide-Semiconductor Process," the 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2009), P-7-1, Sendai (Japan), Oct. 2009.
 **Domestic Conferences**
+  - 稲本慎, 丸山武男, 飯山宏一,\\ 「MEMSを位相制御器としたマッハ・ツェンダ干渉計型光スイッチの検討」,\\ 電子情報通信学会 レーザ・量子エレクトロニクス研究会, LQE2009-26, 東京, 2009年6月.
+  - 丸山武男, 牧俊作, 飛鳥井貴弘, 飯山宏一,\\ 「緑色帯有機半導体VCSELのしきい値電流密度解析」,\\ 第8回有機EL討論会, S9-5, 東京, 2009年6月.
+  - 丸山武男, 飛鳥井貴弘, 飯山宏一,\\ 「有機材料のみを用いた垂直共振器面発光レーザのしきい値電流密度解析」,\\ 第70回応用物理学会学術講演会, 10p-ZC-21, 富山, 2009年9月.
+  - 高松英輝, 丸山武男, 飯山宏一,\\ 「0.18$\mu$m CMOSプロセスによる広帯域・高利得Si APDの設計と評価」,\\ 第70回応用物理学会学術講演会, 10a-S-4, 富山, 2009年9月.
+  - 稲本慎, 丸山武男, 飯山宏一,\\ 「MEMSを用いた方向性結合器型光ルーティング素子の解析」,\\ 第70回応用物理学会学術講演会, 9a-ZN-3, 富山, 2009年9月.
+  - 飯山宏一, 石田光正, 小野裕佑, 丸山武男,\\ 「アモルファスPETを用いたチャネル光導波路」,\\ 第70回応用物理学会学術講演会, 8a-ZN-4, 富山, 2009年9月.
+  - 堺 雅晃, 丸山武男, 飯山 宏一,\\ 「M系列疑似ランダム光信号を用いた距離計測システムの構築」,\\ 平成21年度電気関係学会北陸支部連合大会, H30, 石川, 2009年9月.
+  - 飛鳥井貴弘, 丸山武男, 飯山 宏一,\\ 「CMOSプロセスを用いたポリシリコン光導波路の作製」,\\ 平成21年度電気関係学会北陸支部連合大会, D9, 石川, 2009年9月.
+  - 高松英輝, 丸山武男, 飯山宏一,\\ 「CMOS プロセスによる正孔注入型および電子注入型 APD の試作と評価」,\\ 電子情報通信学会 シリコンフォトニクス研究会, SIPH2009-P10, 東京, 2009年11月.
+  - 飛鳥井貴弘, 丸山武男, 飯山宏一,\\ 「CMOS 標準プロセスを用いたポリシリコン光導波路」,\\ 電子情報通信学会 シリコンフォトニクス研究会, SIPH2009-P19, 東京, 2009年11月.
+  - 江渕真伍, 丸山武男, 飯山宏一,\\ 「PMMAを用いたSi導波路とガラス基板との平坦化貼付」,\\ 平成21年度応用物理学会北陸・信越支部学術講演会, 2A09, 富山, 2009年11月.
 **Local Meetings**
 **Others**
+  - 飯山宏一, 高松英輝, 丸山武男,\\ 「アバランシェフォトダイオード」\\ 特願2009-164401, 出願日2009年7月13日.
-T. Okumura, M. Kurokawa, M. Shirao, D. Kondo, H. Ito, N. Nishiyama, T. Maruyama and S. Arai, "Lateral current injection GaInAsP/InP laser on semi-insulating substrate for membrane-based photonic circuits," Opt. Express, vol. 17, no. 15, pp. 12564-12570, Jul. 2009.
-M. Inamoto, T. Maruyama and K. Iiyama, "Mach-Zehnder interferometric optical switch with MEMS phase shifter ," Opt. Quantum Electron., vol. 41, no. 8, pp. 599-604, Jun. 2009.
-S. Arai and T. Maruyama, "GaInAsP/InP quantum wire lasers," J. Sel. Top. Quantum Electron. vol. 15, no. 3, pp. 731-742, May/Jun. 2009.
-K. Inoue, D. Plumwongrot, N. Nishiyama, S. Sakamoto, H. Enomoto, S. Tamura, T. Maruyama and S. Arai, "Loss reduction of Si wire waveguide fabricated by edge-enhancement writing for electron beam lithography and reactive ion etching using double layered resist mask with C60," Jpn. J. Appl. Phys. vol. 48, no. 3, pp. 030208(3pages), Mar. 2009.